기술의 뉴 프론티어66

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  MASK 개념 Mask 회로를 그리는 과정이 미세한 만큼 반도체 공정에서는 일종의 '틀' 과 같은 것을 이용하는데 정교하게 따라 그릴수 있는 틀이 바로 Mask 이다 위 그림과 같이 빛의 굴절을 활용해 작은 칩안에 패턴을 담는데, 웨이퍼 위에 감광액이 도포되어 있어서 마스크의 형태를 따라 통과하는 빛은 패턴이 새겨지게 된다. Mask는 용도 및 여러가지를 고려하여 설계 한다. 설계는 보통 반도체 마스크라 불리는 석영유리 마스크에서 제작. 석영유리 마스크는 실제 반도체 제품보다 몇배 큰사이즈 이며 정밀한 하고 세밀한 설계를 하는것에 용이 비유를 하자면 웨이퍼는 흰 종이 이고, 노광공정의 UV 는 펜으로 비유 할수 있다. 기술의 뉴 프론티어/혁신의 단계 2020. 5. 16.

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  센서의 기초 센서 외부자극을 받아 전기신호로 변환하는 소자 외부자극이란 검출 & 측정 하고자하는 양과 특성 또는 상태를 의미 외부자극의 종류 센서의 기본특성 - 정특성 : 입력이 시간적으로 변하지 않을 때의 특성 EX) 감도 , 직선성 , 히스테리시스 -동특성 : 입력이 시간에 따라 변할 때의 특성 EX) 응답시간 , 주파수 특성 센서의 분류 동작 에너지 공급유무에 따른 분류 1. 능동형 센서 (변조형 센서) 변환동작을 위해 외부로부터 전원을 공급. 출력신호 전력의 대부분은 외부에서 가한 전원으로부터 얻음. 입력은 단지 출력만을 제어 장점 공급전압이 전체적인 감도를 변화시킬수 있다 단점 수동형 센서보다 많은 전선을 필요로함 보조전원이 폭발성 분위기에서 사용될경우 폭발위험 증가 EX 포토트랜지스터 , 서미스터 2.수동.. 기술의 뉴 프론티어/감지 기술 2020. 5. 16.

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  헤리컬 밴드 규격 기술의 뉴 프론티어/기술 표준 2020. 5. 16.

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  KS,UL 압착단자 터미널 규격 기술의 뉴 프론티어/기술 표준 2020. 5. 16.

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  케이블 타이 규격별 사이즈 기술의 뉴 프론티어/기술 표준 2020. 5. 16.

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  반도체 8대 공정 [식각(노광)공정] 노광 (Exposure) 물질을 빛에 노출시키는 개념 TFT(박막트랜지스터) 를 만들 때 사용하는 포토리소그래피 공정의 일부 포토 리소 그래피 photo + litho + graphy (사진을 찍다 + 돌 + 글자 , 그림 의 합성어 ) 노광 공정 반도체 집적재료를 원하는 패턴으로 깎아내기 위한 사전 작업 을 의미 하며 TFT의 미세 전자회로를 만들기 위해 회로에 사용되는 물질을 기판에 입히고 비 회로 영역은 제거하는 과정 감광액을 물질위에 도포하고 , 그 위에 회로의 밑그림이 그려진 노광용 마스크를 올린후 노광 장비로 빛을 비춰 감광액이 마스크의 밑그림대로 회로 패턴을 형성한다 즉, 일종의 틀인 마스크를 따라서 빛으로 패턴을 그려넣는 공정이다 노광 장비 분류 노광 장비는 스테퍼(Stepper)와 스캐너.. 기술의 뉴 프론티어/혁신의 단계 2020. 5. 16.