반도체 8대 공정 [식각(노광)공정]

 

노광 (Exposure)


물질을 빛에 노출시키는 개념

TFT(박막트랜지스터) 를 만들 때 사용하는 포토리소그래피 공정의 일부


포토 리소 그래피 
photo + litho + graphy
(사진을 찍다 + 돌 + 글자 , 그림 의 합성어 )

노광 공정


반도체 집적재료를 원하는 패턴으로 깎아내기 위한 사전 작업 을 의미 하며 

TFT의 미세 전자회로를 만들기 위해 회로에 사용되는 물질을 기판에 입히고

비 회로 영역은 제거하는 과정 

감광액을 물질위에 도포하고 , 그 위에 회로의 밑그림이 그려진 노광용 마스크를 올린후 

노광 장비로 빛을 비춰 감광액이 마스크의 밑그림대로 회로 패턴을 형성한다

즉, 일종의 틀인 마스크를 따라서 빛으로 패턴을 그려넣는 공정이다

출처 : https://news.samsungdisplay.com/22149

 

 

노광 장비 분류 

노광 장비는 스테퍼(Stepper)와 스캐너(Scanner) 로 나뉘는데

스테퍼 - 카메라로 사진을 찍든 해당 영억에 빛을 비추는 방식

스캐너 - 문서 스캐너처럼 빛을 일정하게 움직여 패턴을 형성하는 방식

회로의 정밀도를 위해 파장이 짧은 UV(자외선)를 광원으로 사용




노광 공정이 끝나면


빛을 받은 감광제는 특성이 변하게 되면서 

현상 공정을 통해 불필요한 감광제를 제거 하면 원하는 패턴을

감광제로 형성하게 된다.

이후 공정에서 애칭을 통해 실제로 형설할 회로 등의 막을 패터닝하고 

남아있는 감광제는 녹여내 제거한다.



노광공정 요약


1. 식각(Etching) 할 반도체 소자를 준비

2. 노광 작업을 위한 사전작업, 소자에 감광제(PR)도포

3. 마스크를 따라  포토레지스트 위로 빛을 노출

4. 패턴에 맞게 레지스트의 화학적 성질 변환

5. 현상공정에 의해 용해 및 제거되면 포토레지스트에 패턴이 형성



사진 촬영을 위해 카메라에서 셔터를 열어 외부의 빛이 들어오게해

필름에 화학적 변화를 일으켜 상이 맺히게 하는 원리와 유사